防反射 （AR） 涂層 LD 產品采用 Ushio 設計和優良的薄膜沉積技術，正面設計反射率為<0.1%。

與傳統的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調諧激光器的理想選擇，因為它們可以與衍射光柵和干涉濾光片結合使用，以產生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術（光晶格時鐘、激光冷卻）和光譜學的應用。

我們為量子技術提供三種波長，即 671nm、689nm 和 698nm。Ushio 的芯片具有高可靠性的光輸出功率 200mW 和 75°C 的高溫作，10nm 或更高的增益峰值可以通過溫度控制自由調節。

核心技術：

激光二極管技術：在激光二極管的研發和制造方面有深入的技術積累，能夠精確控制激光二極管的結構和性能參數，實現高效的激光產生和輸出。例如，通過優化芯片設計和材料選擇，提高了激光二極管的發光效率和壽命。

光學系統設計：擁有優良的光學系統設計能力，能夠根據不同的應用需求，設計出高性能的光束整形、準直和聚焦系統。如在直接成像應用中，通過精密的光學系統設計，將激光束精確聚焦到微小的區域，實現高分辨率的成像。

控制與驅動技術：開發了優良的控制與驅動電路，能夠精確控制激光儀器的輸出功率、脈沖頻率等參數。并且具備良好的穩定性和可靠性，可確保激光儀器在長時間運行過程中保持穩定的性能。